США, Нидерланды и Япония договорились ограничить доступ Китая к оборудованию для производства микросхем
Администрация Байдена достигла договоренности с Нидерландами и Японией по поводу ограничения доступа Китая к передовому оборудованию для производства микросхем. Как сообщает Bloomberg, официальные лица двух стран договорились о введении некоторых из тех мер экспортного контроля, которые США использовали в течение последнего года, чтобы запретить своим техногигантам, таким как NVIDIA, поставлять в Китай свою передовую продукцию. Соглашение предусматривает экспортный контроль над компаниями, производящими литографические системы, включая ASML и Nikon.
Bloomberg сообщает, что США, Нидерланды и Япония не планируют публично раскрывать детали соглашения. Более того, имплементация может занять месяцы, пока страны будут работать над юридическими деталями.
«Переговоры продолжаются уже давно, но мы об этом не говорим. И если какая-то информация попадет в свободный доступ, то не думаю, что это хоть как-то изменит наши намерения», – заявил премьер-министр Нидерландов Марк Рютте, отвечая на вопрос о переговорах.
По данным Bloomberg, сделка будет касаться как минимум некоторых машин погружной литографии ASML. По состоянию на прошлый год ASML являлась единственной компанией в мире, которая производила машины для ультрафиолетовой литографии (EUV), необходимые производителям микросхем для изготовления 5-нм и 3-нм полупроводников, используемых в новейших смартфонах и компьютерах.
Отключение Китая от продукции ASML является попыткой администрации Байдена заморозить внутреннюю индустрию микросхем в стране. Минувшим летом китайские государственные СМИ сообщили, что SMIC, ведущий китайский производитель полупроводников, начал серийное производство 14-нм чипов и успешно начал производить 7-нм кремний без доступа к иностранному оборудованию для производства микросхем. Китай заявил, что SMIC работает над производством полупроводников с топологическим размером 5 нм, но неясно, как компания будет делать это без доступа к EUV-машинам.
